沉积
获得见解并加快开发进程。
Advanced Energy 为关键的薄膜沉积应用和器件几何形状提供电源和控制解决方案。为了解决晶圆加工难题，我们的精密功率转换解决方案可帮助您优化功率精度、精度、速度和工艺可重复性。
我们提供广泛的射频频率、直流电源系统、定制功率输出水平、匹配技术以及光纤温度监测解决方案，真正帮助您更好地控制等离子体工艺。我们还集成了 Fast DAQ™ 以及我们的数据采集和访问套件，以提供工艺洞察并加快开发流程。
了解有关我们的半导体制造工艺的更多信息，以找到适合您需求的解决方案。
你的挑战
从用于图案化集成电路尺寸的薄膜到导电和绝缘薄膜（电气结构），再到金属薄膜（互连），您的沉积工艺需要原子级控制——不仅针对每个特征，而且针对整个晶圆。
除了结构本身之外，沉积的薄膜还必须具有高质量。它们需要具备所需的晶粒结构、均匀性和保形厚度，并且无空隙——此外，还要提供所需的机械应力（压缩和拉伸）和电气性能。
复杂性只会持续增加。为了突破光刻工艺的限制（亚1X纳米节点），自对准双重和四重图案化技术要求您的沉积工艺能够在每个晶圆上生成并复制相同的图案。
我们的解决方案
当您部署最关键的沉积应用和设备几何形状时，您需要一个可靠的市场领导者。
Advanced Energy 的射频功率传输和高速匹配技术使您能够定制和优化所有先进 PECVD 和 PEALD 沉积工艺所需的功率准确度、精确度、速度和工艺重复性。
利用我们的直流发电机技术来微调可配置的电弧响应、功率精度、速度和工艺可重复性所需的 PVD（溅射）和 ECD 沉积工艺。
好处
● 增强等离子体稳定性和工艺可重复性可提高产量
● 精确的射频和直流传输，全数字控制，有助于优化工艺效率
● 快速响应等离子变化和电弧管理
● 具有自适应频率调节的多级脉冲提高了蚀刻速率选择性
● 提供全球支持以确保最大限度的正常运行时间和产品性能